Veeco e imec crearon un método compatible con 300 mm para integrar titanato de bario en fotónica de silicio, aumentando el rendimiento para centros de datos y telecomunicaciones. Veeco and imec created a 300mm-compatible method to integrate barium titanate into silicon photonics, boosting performance for data centers and telecom.

Veeco e imec han desarrollado un proceso compatible con 300 mm para integrar titanato de bario en fotónica de silicio, avanzando el potencial de dispositivos fotónicos escalables y de alto rendimiento utilizados en centros de datos y telecomunicaciones. Veeco and imec have developed a 300mm-compatible process to integrate barium titanate onto silicon photonics, advancing the potential for high-performance, scalable photonic devices used in data centers and telecommunications. El descubrimiento permite la deposición precisa de películas de titanato de bario, mejorando la modulación óptica y la eficiencia del dispositivo. The breakthrough enables precise deposition of barium titanate films, enhancing optical modulation and device efficiency. El proceso está diseñado para la compatibilidad con la infraestructura de fabricación de semiconductores existente, allanando el camino para una adopción más amplia en las tecnologías ópticas de próxima generación. The process is designed for compatibility with existing semiconductor manufacturing infrastructure, paving the way for wider adoption in next-generation optical technologies.