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China construye un prototipo de máquina de litografía EUV, avanzando en la independencia del chip en medio de restricciones globales.
A principios de 2025, los investigadores chinos en Shenzhen completaron un prototipo de máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV), un paso clave en la producción de chips semiconductores avanzados, mediante la ingeniería inversa de la tecnología de la compañía holandesa ASML.
Construida por antiguos ingenieros de ASML, la máquina genera luz EUV y opera en un piso de fábrica, pero aún no ha producido chips de trabajo.
El proyecto, parte de un esfuerzo nacional de seis años liderado por el asesor del presidente Xi Jinping, Ding Xuexiang, e involucrando a Huawei y laboratorios estatales, tiene como objetivo lograr la autosuficiencia de semiconductores en medio de los controles de exportación de los Estados Unidos y los Países Bajos.
Si bien China todavía enfrenta grandes desafíos técnicos, especialmente en componentes de precisión, el avance sugiere que el progreso puede ser más rápido que las estimaciones anteriores de una línea de tiempo de una década, y algunos expertos ahora proyectan un chip funcional para 2030.
China builds prototype EUV lithography machine, advancing chip independence amid global restrictions.