Imec produce en masa nanoporos ultrapequeños y uniformes utilizando litografía EUV, avanzando en biosensores para la genómica y la medicina. Imec mass-produces ultra-small, uniform nanopores using EUV lithography, advancing biosensors for genomics and medicine.

Imec ha logrado la primera producción a escala de obleas de nanoporos de estado sólido utilizando la litografía EUV en obleas de silicio de 300 mm, lo que permite la producción en masa de nanoporos altamente uniformes de tan solo 10 nanómetros con potencial para tamaños inferiores a 5 nm. Imec has achieved the first wafer-scale production of solid-state nanopores using EUV lithography on 300mm silicon wafers, enabling mass production of highly uniform nanopores as small as 10 nanometers with potential for sizes below 5nm. El proceso compatible con CMOS supera los desafíos anteriores de escalabilidad y variabilidad, obteniendo una relación señal-ruido de 6.2, lo que indica un fuerte rendimiento para detectar translocaciones moleculares. The CMOS-compatible process overcomes past scalability and variability challenges, yielding a signal-to-noise ratio of 6.2, indicating strong performance for detecting molecular translocations. Este avance allana el camino para matrices de biosensores de alto rendimiento con aplicaciones en genómica, diagnóstico, medicina personalizada y almacenamiento de datos moleculares, transformando la tecnología de nanoporos de la investigación de laboratorio a un uso práctico a gran escala. This breakthrough paves the way for high-throughput biosensor arrays with applications in genomics, diagnostics, personalized medicine, and molecular data storage, transforming nanopore technology from lab research to practical, large-scale use.