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El SMIC de China prueba una máquina de litografía UV profunda de producción nacional para chips de 7 nm, con el objetivo de reducir la dependencia de la tecnología estadounidense y holandesa.
El SMIC de China está probando su primera máquina de litografía ultravioleta profunda construida en el país, desarrollada por la startup de Shanghai Yuliangsheng, marcando el progreso hacia la autosuficiencia en la fabricación de semiconductores.
La máquina tiene como objetivo apoyar la producción de 7 nm y potencialmente escalar a 5 nm, aunque las tasas de rendimiento permanecen bajas debido a los desafíos de alineación.
Este esfuerzo, impulsado por la creciente demanda doméstica de las empresas de IA y el impulso del gobierno por la tecnología interna, busca reducir la dependencia de equipos extranjeros, particularmente de ASML, en medio de las restricciones de exportación estadounidenses en curso.
China's SMIC tests homegrown deep UV lithography machine for 7nm chips, aiming to cut reliance on U.S. and Dutch tech.