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SK Hynix introduce tecnología EUV avanzada, reduciendo los transistores e impulsando la producción de memoria.
SK Hynix se ha convertido en el primero en introducir la tecnología de litografía High NA EUV para la producción en masa en su fábrica M16 en Corea del Sur.
Este nuevo sistema, el TWINSCAN EXE:5200B de ASML, permite transistores 1.7 veces más pequeños y densidades 2.9 veces más altas en comparación con los sistemas EUV existentes.
SK Hynix pretende simplificar los procesos de producción, acelerar el desarrollo de la memoria de próxima generación y fortalecer su posición en el mercado con esta tecnología avanzada.
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SK Hynix introduces advanced EUV tech, shrinking transistors and boosting memory production.