Hitachi lanza el nuevo DCR Etch System 9060 para la fabricación precisa de semiconductores en 3D. Hitachi launches new DCR Etch System 9060 for precise 3D semiconductor manufacturing.

Hitachi High-Tech Corporation ha introducido la serie DCR Etch System 9060, diseñada para el grabado isotrópico preciso de dispositivos 3D avanzados de semiconductores a nivel atómico. Hitachi High-Tech Corporation has introduced the DCR Etch System 9060 Series, designed for precise isotropic etching of advanced 3D semiconductor devices at the atomic level. Este sistema utiliza tecnología de grabado de plasma para obtener resultados de bajo daño y alta precisión, e incluye un mecanismo de refrigeración único para mejorar la eficiencia. This system uses plasma etching technology for low-damage, high-precision results, and includes a unique cooling mechanism to enhance efficiency. Su objetivo es ayudar a los fabricantes de semiconductores complejos a reducir costos y mejorar la productividad. It aims to help manufacturers of complex semiconductors reduce costs and improve productivity.

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